Заспокійлива та регенеруюча маска Histomer Formula 201 Zinc-O Mask
Пом’якшувальна та регенеруюча маска на основі стовбурових клітин рослин та оксиду цинку моментально знімає почервоніння та почуття дискомфорту, відновлює баланс жирної шкіри або шкіри, схильної до акне.
Знімає жирний блиск і чудово пом’якшує шкіру.
Активні інгредієнти: оксид цинку, вітамін Е, стовбурові клітини бузку, екстракт сереної, фітостероли, олії кунжуту та аргани, лецитин, бісаболол.
Ефективна при дотриманні протоколу процедури догляду за проблемною та подразненою шкірою.
Відгуки
Відгуків немає, поки що.