Histomer Zinc-O Mask — Успокаивающая и регенерирующая маска

Успокаивающая и регенерирующая маска Histomer Formula 201 Zinc-O Mask

Смягчающая и регенерирующая маска на основе стволовых клеток растений и оксида цинка моментально снимает покраснения и чувство дискомфорта, восстанавливает баланс жирной кожи или кожи, склонной к акне.
Снимает жирный блеск и прекрасно смягчает кожу.
Активные ингредиенты: оксид цинка, витамин Е, стволовые клетки сирени, экстракт серенои, фитостеролы, масла кунжута и арганы, лецитин, бисаболол.

Эффективна при соблюдении протокола процедуры ухода за проблемной и раздраженной кожей.