Відновлююча маска для чутливої шкіри Histomer Formula 201 Repair Complex Cream Mask
Бархатиста ніжна текстура маски ідеально лягає на шкіру і не залишає жирних слідів.
Екстракти босвеллії та африканської берези Anogeissus заспокоюють роздратовану шкіру та повертають їй гладкість, рівний сяючий колір та свіжість.
Запатентований Bio-Matrix Complex® відновлює захисні механізми клітин шкіри, а фітосфінгозини та натуральні олії знімають неприємні симптоми.
Активні інгредієнти: Bio-Matrix Complex®, екстракт босвеллії, коріння дуба та африканської берези Anogeissus, стовбурові клітини бузку, олії рисових висівок та солодкого мигдалю, фітосфінгозини, оксид цинку, натуральні фактори зволоження NMF, лец.
Відгуки
Відгуків немає, поки що.