Histomer Repair Complex Cream Mask — Маска для чувствительной кожи

Восстанавливающая маска для чувствительной кожи Histomer Formula 201 Repair Complex Cream Mask

Бархатистая нежная текстура маски идеально ложится на кожу и не оставляет жирных следов.
Экстракты босвеллии и африканской березы Anogeissus успокаивают раздраженную кожу и возвращают ей гладкость, ровный сияющий цвет и свежесть.
Запатентованный Bio-Matrix Complex® восстанавливает защитные механизмы клеток кожи, а фитосфингозины и натуральные масла снимают неприятные симптомы.
Активные ингредиенты: Bio-Matrix Complex®, экстракт босвеллии, корней дуба и африканской березы Anogeissus, стволовые клетки сирени, масла рисовых отрубей и сладкого миндаля, фитосфингозины, оксид цинка, натуральные факторы увлажнения NMF, лецитин, витамины Е и С.