Маска для восстановления кожи Unstress Replenishing Mask с легкой кремовой текстурой, которая моментально впитывается и не оставляет следов. Оказывает долговременное увлажнение. Рекомендуется использовать при повреждениях эпидермиса после агрессивных воздействий.
Преимущества:
- устраняет шелушения, зуд, раздражения
- насыщает эпидермис влагой
- оказывает успокаивающее действие
- сокращает видимость морщин
- ускоряет клеточную регенерацию
Активные ингредиенты:
- масло ши
- глицерин
- экстракт огурца
- лимонная и олеиновая кислота
Применение:
Дважды в неделю перед сном наносите продукт на чистое лицо. Не смывайте.
Состав:
Deionized water (Aqua), Cetearyl Ethylhexanoate, Glycerin, Cetearyl Alcohol, Zinc carbonate (CI 77950), Thermus Thermophillus Ferment, Cyclopentasiloxane, Cetearyl Glucoside, Butyrospermum Parkii Butter, Dimethicone, Stearyl Alcohol, Cetyl Alcohol, Phenoxyethanol, Saccharide Isomerate, Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, Polysilicone-11, Chlorphenesin, Triethanolamine, Cucumis Sativus (Cucumber) Fruit Extract, Butylene Glycol, Sodium hyaluronate, Tocopheryl Acetate, Allantoin, Isohexadecane, Ethylhexylglycerin, Sodium Acrylate/Sodium Acryloyldimethyl Taurate Copolymer, Glucose, Linoleic Acid, Perfume, Oleic Acid, Plumeria Alba Flower Extract, Iron Oxide (CI 77492), 1,2-Hexanediol, Caprylyl Glycol, Polysorbate 80, Ammonium Polyacryloyldimethyl Taurate, Sodium Benzoate, Magnesium Ascorbyl Phosphate, Arbutin, Polysorbate 20, Sorbitan Oleate, Potassium Sorbate, Sodium Metabisulfite, Citric Acid, Sodium Citrate, Linolenic Acid, Sorbic Acid, Tocopherol, Benzyl Salicylate
Отзывы
Отзывов пока нет.