Маска для відновлення шкіри Unstress Replenishing Mask з легкою кремовою текстурою, яка миттєво поглинається і не залишає слідів. Надає довготривале зволоження. Рекомендується використовувати при пошкодженнях епідермісу після агресивних впливів.
Переваги:
- усуває лущення, свербіж, подразнення
- насичує епідерміс вологою
- чинить заспокійливу дію
- скорочує видимість зморшок
- прискорює клітинну регенерацію
Активні інгредієнти:
- олія ши
- гліцерин
- екстракт огірка
- лимонна та олеїнова кислота
Застосування:
Двічі на тиждень перед сном наносьте продукт на чисте обличчя. Не змивайте.
Склад:
Deionized water (Aqua), Cetearyl Ethylhexanoate, Glycerin, Cetearyl Alcohol, Zinc carbonate (CI 77950), Thermus Thermophillus Ferment, Cyclopentasiloxane, Cetearyl Glucoside, Butyrospermum Parkii Butter, Dimethicone, Stearyl Alcohol, Cetyl Alcohol, Phenoxyethanol, Saccharide Isomerate, Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, Polysilicone-11, Chlorphenesin, Triethanolamine, Cucumis Sativus (Cucumber) Fruit Extract, Butylene Glycol, Sodium hyaluronate, Tocopheryl Acetate, Allantoin, Isohexadecane, Ethylhexylglycerin, Sodium Acrylate/Sodium Acryloyldimethyl Taurate Copolymer, Glucose, Linoleic Acid, Perfume, Oleic Acid, Plumeria Alba Flower Extract, Iron Oxide (CI 77492), 1,2-Hexanediol, Caprylyl Glycol, Polysorbate 80, Ammonium Polyacryloyldimethyl Taurate, Sodium Benzoate, Magnesium Ascorbyl Phosphate, Arbutin, Polysorbate 20, Sorbitan Oleate, Potassium Sorbate, Sodium Metabisulfite, Citric Acid, Sodium Citrate, Linolenic Acid, Sorbic Acid, Tocopherol, Benzyl Salicylate
Відгуки
Відгуків немає, поки що.